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新基脫泡攪拌機(jī)ARE-310使用場景

玉崎科學(xué)現(xiàn)貨新基脫泡攪拌機(jī)ARE-310有以下使用場景:科研領(lǐng)域新材料研發(fā):在研究新型高分子材料、復(fù)合材料時(shí),需將不同成分均勻混合并脫除氣泡,以保證材料性能的一致性和穩(wěn)定性。例如,研發(fā)高強(qiáng)度工程塑料、新型電子封裝材料時(shí),該攪拌機(jī)可使添加劑、填充劑等在基體材料中均勻分散,同時(shí)去除攪拌過程中引入的氣泡,避免氣泡對(duì)材料性能的不良影響。藥物研發(fā):在藥物研發(fā)過程中,對(duì)于一些混懸液、乳劑等藥物劑型的制備,新基脫泡攪拌機(jī)310可將藥物活性成分與輔料均勻混合,同時(shí)脫去氣泡,提高藥物的穩(wěn)定性和...

  • 2025

    6-4

    B-52-1DWJ赫爾槽試驗(yàn)設(shè)備的應(yīng)用場景主要有以下幾個(gè)方面:電鍍工藝開發(fā):確定最佳鍍液成分:通過在赫爾槽中使用不同成分比例的鍍液進(jìn)行試驗(yàn),觀察在不同陰極電流密度下的鍍層效果,從而確定鍍液中各種金屬鹽、絡(luò)合劑、添加劑等的最佳含量。例如,在開發(fā)新型鍍鎳工藝時(shí),可利用該設(shè)備確定光亮劑、走位劑等添加劑的合適添加量,以獲得光亮、均勻且性能良好的鎳鍍層。優(yōu)化工藝條件:可以研究諸如溫度、pH值、攪拌方式及強(qiáng)度等工藝條件對(duì)電鍍效果的影響,確定大生產(chǎn)允許的陰極電流密度范圍等。比如,在鍍鉻工藝...

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    6-4

    B-72WJ螺旋應(yīng)力計(jì)適用于以下場景:科研機(jī)構(gòu)與高校研究材料科學(xué)研究:在研究新型電鍍材料或工藝時(shí),需要精確了解鍍層內(nèi)部應(yīng)力變化。例如研究納米晶電鍍層、多元合金鍍層的應(yīng)力特性,以優(yōu)化材料性能,開發(fā)出強(qiáng)度更高、耐腐蝕性更好的新材料?;A(chǔ)電鍍理論研究:用于探索電鍍過程中應(yīng)力產(chǎn)生的機(jī)制和影響因素,如電流密度、鍍液成分、溫度等對(duì)鍍層應(yīng)力的影響規(guī)律,為建立更完善的電鍍理論提供實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)支持。電子工業(yè)半導(dǎo)體制造:在芯片制造過程中,晶圓上的金屬鍍層應(yīng)力控制至關(guān)重要。B-72WJ螺旋應(yīng)力計(jì)可用于...

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    B-77WJ電鍍深鍍能力測試儀的應(yīng)用場景B-77WJ電鍍深鍍能力測試儀主要用于評(píng)估電鍍液在復(fù)雜幾何形狀工件上的均勻電鍍能力(即深鍍能力),適用于以下場景:一、電鍍液研發(fā)與優(yōu)化新鍍液開發(fā)在研發(fā)新型電鍍液(如鍍金、鍍銀、鍍銅等貴金屬或金屬鍍液)時(shí),需通過測試驗(yàn)證其在不同電極距離、電流密度下的深鍍能力,確保鍍液配方滿足實(shí)際生產(chǎn)需求。示例:開發(fā)高分散能力的鍍金液時(shí),通過B-77WJ測試不同添加劑比例對(duì)鍍層均勻性的影響,優(yōu)化配方以減少工件深孔或凹槽處的鍍層厚度差異?,F(xiàn)有鍍液性能改良當(dāng)電...

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    6-4

    WATSON移液器單道可調(diào)滅菌NT-S10免費(fèi)校準(zhǔn)WATSON移液器單道可調(diào)滅菌NT-S10免費(fèi)校準(zhǔn)精度較高:采用先進(jìn)的制造工藝和技術(shù),能將誤差控制在極小范圍內(nèi),確保移液的準(zhǔn)確性和重復(fù)性,可有效減少實(shí)驗(yàn)誤差,為科研和實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性提供保障,滿足各種高精度實(shí)驗(yàn)的需求。操作便捷:部分型號(hào)配備高速容量設(shè)定刻度盤,如三速渦輪刻度盤,1次旋轉(zhuǎn)相當(dāng)于普通按鈕刻度盤的3.5次旋轉(zhuǎn),單手即可輕松操作,方便進(jìn)行大容量調(diào)整,小量程調(diào)整則可使用小刻度盤,實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)微調(diào)。同時(shí),其極輕的按壓感設(shè)計(jì),減...

  • 2025

    6-4

    WATSON深江化成NT-S20可調(diào)液體分液移液器2-20µl現(xiàn)貨WATSON深江化成NT-S20可調(diào)液體分液移液器2-20µl現(xiàn)貨精度較高:采用先進(jìn)的制造工藝和技術(shù),能將誤差控制在極小范圍內(nèi),確保移液的準(zhǔn)確性和重復(fù)性,可有效減少實(shí)驗(yàn)誤差,為科研和實(shí)驗(yàn)結(jié)果的可靠性提供保障,滿足各種高精度實(shí)驗(yàn)的需求。操作便捷:部分型號(hào)配備高速容量設(shè)定刻度盤,如三速渦輪刻度盤,1次旋轉(zhuǎn)相當(dāng)于普通按鈕刻度盤的3.5次旋轉(zhuǎn),單手即可輕松操作,方便進(jìn)行大容量調(diào)整,小量程調(diào)整則可...

  • 2025

    5-30

    UV-351ORC照度計(jì)使用標(biāo)準(zhǔn)光源校準(zhǔn)法的校準(zhǔn)頻率通常為一年6。但在以下幾種情況下,可能需要適當(dāng)縮短校準(zhǔn)周期:使用頻繁:如果照度計(jì)每天都被大量使用,頻繁的測量操作可能會(huì)使儀器的精度受到影響,建議每半年甚至每季度校準(zhǔn)一次。環(huán)境惡劣:若照度計(jì)在高溫、高濕、灰塵多或有振動(dòng)的環(huán)境中使用,可能導(dǎo)致儀器內(nèi)部元件受損或性能變化,應(yīng)縮短校準(zhǔn)周期,如每半年校準(zhǔn)一次。測量精度要求高:在對(duì)測量精度要求高的場合,如科研實(shí)驗(yàn)、精密生產(chǎn)過程監(jiān)控等,為確保數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性,可根據(jù)實(shí)際情況每3-6個(gè)月校準(zhǔn)一次...

  • 2025

    5-30

    UV-351ORC照度計(jì)的標(biāo)準(zhǔn)光源校準(zhǔn)法是一種精確校準(zhǔn)該照度計(jì)的方法,以下是其詳細(xì)介紹:所需設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)紫外線光源:如經(jīng)過國家或國際計(jì)量機(jī)構(gòu)認(rèn)證的氘燈、汞燈或紫外LED標(biāo)準(zhǔn)源,其輸出的紫外線強(qiáng)度在特定波長下具有已知的準(zhǔn)確值。例如,波長在310-385nm范圍內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)值應(yīng)可溯源到更高等級(jí)的計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)1。穩(wěn)定的電源供應(yīng):為標(biāo)準(zhǔn)紫外線光源提供穩(wěn)定的電壓和電流,以確保其輸出的光強(qiáng)穩(wěn)定。光闌和準(zhǔn)直裝置:用于控制和準(zhǔn)直標(biāo)準(zhǔn)光源發(fā)出的光線,使其以特定的角度和均勻性照射到被校準(zhǔn)的UV-351照度計(jì)...

  • 2025

    5-30

    UV-351ORC照度計(jì)的精度校準(zhǔn)通常需要借助專業(yè)的校準(zhǔn)設(shè)備和標(biāo)準(zhǔn)流程,以確保其測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。以下是其精度校準(zhǔn)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)和常見方法:一、校準(zhǔn)核心原理照度計(jì)的精度校準(zhǔn)基于光輻射計(jì)量標(biāo)準(zhǔn),通過與已知標(biāo)準(zhǔn)值的紫外線光源或標(biāo)準(zhǔn)探測器進(jìn)行比對(duì),調(diào)整或驗(yàn)證設(shè)備的測量偏差。校準(zhǔn)過程需在可控的光學(xué)環(huán)境(如暗室、恒溫恒濕環(huán)境)中進(jìn)行,避免環(huán)境光、溫度等因素干擾校準(zhǔn)結(jié)果。二、校準(zhǔn)關(guān)鍵步驟1.標(biāo)準(zhǔn)光源校準(zhǔn)法使用標(biāo)準(zhǔn)紫外線光源:通過高精度的紫外線標(biāo)準(zhǔn)光源(如氘燈、汞燈或紫外LED標(biāo)準(zhǔn)源)...

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    5-30

    UV-351ORC的主要技術(shù)參數(shù)如下1:測量波長范圍:310-385nm(不同資料略有差異,也有320-390nm的表述)。峰值靈敏度波長:360nm。測量照度范圍:0.1-100.0mW/cm2。測量光量范圍:1-19999mJ/cm2。對(duì)準(zhǔn)精度:在自身紫外線標(biāo)準(zhǔn)的±1.5%范圍內(nèi)。重復(fù)性:±1.5%以內(nèi)。工作溫度范圍:0-60℃(無凝結(jié))。電源:紐扣型鋰電池,連續(xù)使用300小時(shí)。尺寸:79(W)×160(D)×70(H)mm。重量:180g。測...

  • 2025

    5-30

    ORC的UV-351是一款性能出色的紫外線照度計(jì),以下是其主要使用場景1:半導(dǎo)體和液晶制造:在半導(dǎo)體芯片制造以及液晶基板生產(chǎn)過程中,光刻工藝需要精確控制紫外線強(qiáng)度,以確保芯片圖案的準(zhǔn)確性和液晶面板的質(zhì)量。UV-351可用于監(jiān)測曝光設(shè)備發(fā)出的紫外線強(qiáng)度,保證曝光過程的穩(wěn)定性和一致性,從而提高產(chǎn)品的良品率。UV固化設(shè)備:在UV固化領(lǐng)域,如印刷行業(yè)的油墨固化、涂料行業(yè)的UV漆固化以及電子行業(yè)的膠水固化等,需要準(zhǔn)確測量UV傳送帶的照度和光量,以確保固化效果。UV-351能夠幫助操作人...

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