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玉崎科學(xué)XHEMIS EX-2000半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku射線膠片厚度 玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku射線膠片厚度 使用 射線熒光 (XRF) 和 射線反射 (XRR) 的非接觸式、非破壞性薄膜厚度和密度測(cè)量裝置

玉崎科學(xué)ONYX 3200半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具 玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具 內(nèi)聯(lián)雙頭微點(diǎn) XRF 無(wú)損晶圓檢測(cè)和計(jì)量 雙 X 射線源（多毛細(xì)管/單色）， 適用于最大 300 mm 的晶圓

玉崎科學(xué)ONYX 3000半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具 玉崎科學(xué)半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku光學(xué)工具 混合 XRF 和光學(xué)計(jì)量 FAB 工具 能量色散X射線熒光光譜儀（ED-XRF），能夠以無(wú)損、非接觸的方式同時(shí)分析300mm和200mm晶圓上各種薄膜的厚度和成分。

半導(dǎo)體設(shè)備XHEMIS TX-3000V理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀 半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀 內(nèi)置 VPD 的 TXRF 光譜儀 超快速金屬污染測(cè)繪 VPD 的最高靈敏度 兼容最大 300mm 晶圓

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半導(dǎo)體設(shè)備TXRF-V310理學(xué)Rigaku反射熒光X射線分析儀 半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線分析儀 采用轉(zhuǎn)子式高輸出X射線發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射X射線單色儀。 使用直接TXRF測(cè)量方法實(shí)現(xiàn)了10 8 原子/cm 2的過渡金屬LLD水平。 它可實(shí)現(xiàn)相同的精度和高通量，測(cè)量時(shí)間僅為封閉式 X 射線管的 1/3。